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    什么是半硬膜

    發(fā)布日期:2021-01-20 作者:易斌 點(diǎn)擊:

    PVD半硬膜是介于裝飾膜和硬膜之間的一類薄膜,主要應(yīng)用于對(duì)外觀顏色和亮度要求不高,對(duì)耐磨性能、耐腐蝕性能、抗沖擊性能等功能有一定要求的工件表面。

    從外觀來看,裝飾膜顏色主要有仿金膜系(TiN、ZrN)、金色膜系(TiN+(TiAu)N)、玫瑰金色膜系(TiCN/Au–Cu、TiAlN/Au–Cu)、黑色膜系(TiC、TiC+iC、TiAlN、DLC)、銀白色、咖啡色、棕褐色、紫紅色、藍(lán)色(TiO2干涉膜)、幻彩色(TiO2/SiO2 多層干涉膜)等。硬膜的外觀顏色主要有金色(TiN)、黑色(AlTiN、AlCrN、TiC、DLC)、灰色(CrN)、古銅色(TiSiN)等。半硬膜是結(jié)合了裝飾膜的外觀顏色,因此在外觀上考慮了裝飾膜的種類和色系的區(qū)別。

    從厚度方面來看,裝飾膜與硬質(zhì)膜相比較薄,厚度一般在0.2 ~ 2.0 μm之間,在生產(chǎn)過程中,考慮到光澤的效果,沉積時(shí)間通常在10 ~ 20 min,得到的薄膜的厚度基本在1μm以下。因此,雖然裝飾膜也有減少表面磨損,抵抗表面腐蝕,延長產(chǎn)品使用壽命的作用,但是由于其厚度很薄,其耐磨性、抗腐蝕性的能力必定不強(qiáng)。硬質(zhì)薄膜的厚度通常在2 ~ 10 μm,其致密性和耐磨性相對(duì)裝飾膜有極大的優(yōu)勢(shì)。半硬膜就是考慮了市場的需求,普通裝飾膜已經(jīng)不能滿足苛刻應(yīng)用環(huán)境下的工件的要求,勢(shì)必要增強(qiáng)耐磨性和耐腐蝕性。因此,在膜層厚度上與傳統(tǒng)的裝飾膜有較大的區(qū)別,厚度需要達(dá)到2 ~ 5 μm。對(duì)應(yīng)的沉積時(shí)間需要達(dá)到1 h左右,造成的外觀色澤相對(duì)裝飾膜較差。顏色相對(duì)厚重、暗沉。

    從性能方面來看,裝飾膜的性能測試要求更低,裝飾膜的耐磨性測試轉(zhuǎn)速25 r/min,硬質(zhì)膜為 300 ~ 600 r/min。附著力方面,裝飾膜的附著力用3M膠帶或者超聲振動(dòng),硬質(zhì)膜采用劃痕儀或者洛氏壓痕。耐高溫性能方面,裝飾膜的測試條件通常是200 ~ 300 ℃,30 min,硬質(zhì)膜的測試條件通常在500 ~ 1200 ℃。耐腐蝕性測試方面,裝飾膜的條件通常是48 小時(shí),硬質(zhì)膜通常在72小時(shí)以上。對(duì)比以上的測試條件和測試方法可以看出。裝飾膜在性能方面要求較硬質(zhì)膜低得多,其更關(guān)注的是外觀的顏色和色澤。半硬膜所要達(dá)到的就是在裝飾膜基礎(chǔ)上,提高其性能。

    從應(yīng)用場景看,裝飾膜廣泛應(yīng)用于用于鐘表、手機(jī)殼、高級(jí)體育用品、眼鏡、門鎖、首飾、金屬家具以及汽車的內(nèi)外裝飾件等產(chǎn)品。這些產(chǎn)品大部分是人們平常生活所用,接觸的是人身體部分,需要有外觀裝飾效果,因此對(duì)于耐磨損、抗腐蝕性能要求很低,對(duì)于顏色和色澤要求比較高。硬質(zhì)膜廣泛應(yīng)用于工具、模具以及各類機(jī)械零部件上。這些產(chǎn)品的使用環(huán)境都相對(duì)苛刻,刀具應(yīng)用于高速切削、模具應(yīng)用于大載荷沖擊、機(jī)械零件應(yīng)用于振動(dòng)和摩擦等環(huán)境。因此對(duì)于外觀裝飾基本無要求,更多傾向于其耐磨損性能、抗沖擊性能。半硬膜有外觀裝飾要求和耐磨性能、耐腐蝕性能或者抗沖擊性能。這也決定其應(yīng)用的產(chǎn)品有非高速切削的刀具(美工刀、日常用刀等)、長期摩擦磨損的五金器件(滑軌、門鎖等)、長期浸泡的五金(水槽、衛(wèi)浴等)、長期處于油煙環(huán)境(廚房器具等)、承受大載荷沖擊(高爾夫球頭、沖擊鉆的沖頭和鉆頭等)、其他(螺絲釘、螺絲刀等)。這些產(chǎn)品的應(yīng)用環(huán)境相對(duì)并不是特別苛刻,為了適應(yīng)環(huán)境的需求或者人們對(duì)外觀的要求,因此在顏色和色澤上又有一定的要求。

    從制備方法看,PVD裝飾膜和硬質(zhì)膜的制備方法有陰極電弧技術(shù)(優(yōu)點(diǎn)在于離化率高、附著強(qiáng)度高、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,缺點(diǎn)在于鍍膜均勻性、大顆粒破壞膜層的連續(xù)性,增加膜層粗糙度,從而影響光潔度)、磁控濺射技術(shù)(優(yōu)點(diǎn)在于膜層結(jié)構(gòu)致密、細(xì)膩,內(nèi)應(yīng)力低,缺點(diǎn)在于離化率低、易導(dǎo)致靶面毒化)、陰極電弧 + 磁控濺射復(fù)合技術(shù)(用陰極電弧技術(shù)做打底層)、陽極層離子源技術(shù)等。其中獲得的顏色、色澤最好的是磁控濺射技術(shù),獲得物理性能最好的是陰極電弧技術(shù)??紤]到半硬膜的特點(diǎn),陰極電弧 + 磁控濺射復(fù)合技術(shù)是制備半硬膜最適合的技術(shù)。底層采用陰極電弧技術(shù)制備耐腐蝕性、耐磨損性能的薄膜,表面制備色澤度好的裝飾性膜層。除此之外還可以考慮滲氮、滲碳 + 磁控濺射復(fù)合技術(shù),已達(dá)到半硬膜的性能要求。

    綜上:

    (1)半硬膜的厚度一般在 2 ~ 5 μm 之間,其主要目的是能夠起到減少表面磨損、抵抗表面腐蝕和延長產(chǎn)品使用壽命的效果,同時(shí)能夠改善產(chǎn)品的外觀效果,如色澤、亮度等。

    (2)半硬膜應(yīng)用廣泛,涉及到人們?nèi)粘I詈凸I(yè)產(chǎn)品裝飾等很多領(lǐng)域。



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