二、應(yīng)力測(cè)試方法

　　PVD真空鍍膜廠應(yīng)力測(cè)試方法主要包括X射線和電子衍射法、試樣變形分析法和光干涉法。

　　1、X射線和電子衍射法

　　PVD真空鍍膜廠當(dāng)涂層處于應(yīng)力狀態(tài)下，其晶格會(huì)產(chǎn)生畸變，從而使晶格常數(shù)發(fā)生變化，所以用X射線和電子衍射方法測(cè)出晶格常數(shù)的衍射譜線寬度的變化，可以按一定公式計(jì)算出涂層的應(yīng)力。

　　2.試樣變形分析法

　　PVD真空鍍膜廠將很薄的平直長(zhǎng)方形玻璃片的一端固定在涂層設(shè)備的真空室內(nèi)，然后在薄片的一個(gè)表面上涂層，涂層應(yīng)力會(huì)使薄片的自由端產(chǎn)生變形，用長(zhǎng)焦測(cè)量顯微鏡測(cè)出薄片自由端的位移量，再根據(jù)材料力學(xué)公式計(jì)算出涂層的應(yīng)力。

　　3.光干涉法

　　利用光干涉法測(cè)量涂層應(yīng)力是先在干涉儀上測(cè)量出標(biāo)準(zhǔn)平板與未涂層基片之間形成的干涉條紋，然后在基片上涂層，由于涂層應(yīng)力的作用，基片表面產(chǎn)生變形，再在干涉儀上測(cè)量出標(biāo)準(zhǔn)平板與已涂層基片之間形成的干涉條紋，依據(jù)干涉條紋的變化量，用材料力學(xué)公式計(jì)算出涂層應(yīng)力。