二、應(yīng)力測試方法

　　PVD真空鍍膜廠應(yīng)力測試方法主要包括X射線和電子衍射法、試樣變形分析法和光干涉法。

　　1、X射線和電子衍射法

　　PVD真空鍍膜廠當涂層處于應(yīng)力狀態(tài)下，其晶格會產(chǎn)生畸變，從而使晶格常數(shù)發(fā)生變化，所以用X射線和電子衍射方法測出晶格常數(shù)的衍射譜線寬度的變化，可以按一定公式計算出涂層的應(yīng)力。

　　2.試樣變形分析法

　　PVD真空鍍膜廠將很薄的平直長方形玻璃片的一端固定在涂層設(shè)備的真空室內(nèi)，然后在薄片的一個表面上涂層，涂層應(yīng)力會使薄片的自由端產(chǎn)生變形，用長焦測量顯微鏡測出薄片自由端的位移量，再根據(jù)材料力學(xué)公式計算出涂層的應(yīng)力。

　　3.光干涉法

　　利用光干涉法測量涂層應(yīng)力是先在干涉儀上測量出標準平板與未涂層基片之間形成的干涉條紋，然后在基片上涂層，由于涂層應(yīng)力的作用，基片表面產(chǎn)生變形，再在干涉儀上測量出標準平板與已涂層基片之間形成的干涉條紋，依據(jù)干涉條紋的變化量，用材料力學(xué)公式計算出涂層應(yīng)力。