在使用PVD真空鍍膜需要我們注意的問題
3D打印高球形粉末在濺射清潔完成之后,向陰極材料施加負電荷,并且如果基板是導電的,則向基板施加負偏壓。PVD真空電鍍的沉積材料以高能量水平到達基板,并沿基板表面行進,直到達到優(yōu)選的成核位置。從源頭連續(xù)轟擊離子會濺射沉積材料,因此您不會遇到電鍍涂層常見的大邊緣堆積。
真空電鍍工廠提醒您,小心控制這種PVD真空電鍍的轟擊,以免使基板過熱。由于到達產品表面的離子的較高能級,粘附性顯著優(yōu)于電鍍提供的粘附性。繼續(xù)沉積,直到達到所需的涂層厚度,并從腔室中取出部件。微處理器控制整個沉積過程,以確保每次加工產品時都能獲得一致的結果。
真空電鍍技術早出 現(xiàn)在上世紀八九十年代,隨著科學技術在真空電鍍上研究深入技術逐漸成熟,使得真空電鍍加工應用到廣泛工業(yè)生產中,市場餓需求也直接催生一批從事真空電鍍加工廠家使得行業(yè)應用普及化提高到了另外一個水平。電鍍加工市場得到了前所未有的發(fā)展機遇
電鍍加工工藝精準控制直接影響著膜層的質量。掌握和匹配控制好電鍍加工材料的技術的工藝條件,才能獲得優(yōu)質鍍層。如溫度、電流、電鍍時間等嚴格把控工藝條件必須相匹配。各個因素相輔相成相互制約,只有對電鍍技術長期積累才能有對產品的生產技術沉淀。因此不能對工藝條件有很好地掌握,就會發(fā)生電鍍質量不良率發(fā)生直接影響電鍍產品質量。
超硬面熱噴涂電鍍工藝可以加工的金屬類型相對較少,只在用來作高檔產品的功能性鍍層,電鍍就是加工小五金首飾、電子和鐘表這種高附加值產品上有自己的獨特的加工技術。采用真空離子電鍍的產品不僅亮度高性能穩(wěn)定,而且相對傳統(tǒng)的電鍍加工成本較低,對環(huán)境的污染小。