(1)薄膜和基體選料普遍，薄膜薄厚可開展操縱，以制取具備各種各樣不一樣作用的多功能性薄膜。

(2)在真空泵標(biāo)準(zhǔn)下制取薄膜，自然環(huán)境清理，薄膜不容易遭受環(huán)境污染，因而可得到高密度性好、純凈度高和鍍層勻稱的薄膜。

(3)薄膜與基體融合抗壓強(qiáng)度好，薄膜堅(jiān)固。

(4)干試鍍膜既不造成廢水，也無(wú)空氣污染。

真空泵鍍膜技術(shù)性關(guān)鍵有真空蒸發(fā)鍍、真空泵磁控濺射鍍、真空泵等離子噴涂、真空泵束流沉積、有機(jī)化學(xué)液相沉積等多種多樣方式。除有機(jī)化學(xué)液相沉積法外，別的幾類方式均具備下列的相互特性：

(1)各種各樣鍍膜技術(shù)性都必須一個(gè)特殊的真空，以確保制膜原材料在加溫?fù)]發(fā)或磁控濺射全過(guò)程中所產(chǎn)生蒸汽分子結(jié)構(gòu)的健身運(yùn)動(dòng)，不至于遭受空氣中很多汽體分子結(jié)構(gòu)的撞擊、阻攔和影響，并清除空氣中殘?jiān)呢?fù)面影響。

(2)各種各樣鍍膜技術(shù)性都必須有一個(gè)揮發(fā)源或環(huán)靶，便于把揮發(fā)制膜的原材料轉(zhuǎn)換成汽體。因?yàn)樵椿虬械牟粩嗤晟?，大大的擴(kuò)張了制膜原材料的采用范疇，不論是金屬材料、金屬材料鋁合金、金屬材料間化學(xué)物質(zhì)、瓷器或有機(jī)化學(xué)化學(xué)物質(zhì)，都能夠蒸鍍各種各樣陶瓷膜和物質(zhì)膜，并且還能夠另外蒸鍍不一樣原材料而獲得雙層膜。

(3)揮發(fā)或磁控濺射出去的制膜原材料，在與待鍍的產(chǎn)品工件轉(zhuǎn)化成薄膜的全過(guò)程中，對(duì)其膜厚可開展較為精準(zhǔn)的精確測(cè)量和操縱，進(jìn)而確保膜厚的勻稱性。

(4)每個(gè)薄膜都能夠根據(jù)調(diào)整閥精準(zhǔn)地操縱鍍膜室中殘留汽體的成份和摩爾質(zhì)量，進(jìn)而避免蒸鍍?cè)牧系目諝庋趸?，把氧的摩爾質(zhì)量減少到最少的水平，還能夠充進(jìn)稀有氣體等，這針對(duì)濕試鍍膜來(lái)講是沒(méi)法完成的。

(5)因?yàn)殄兡C(jī)器設(shè)備的不斷完善，鍍膜全過(guò)程能夠完成持續(xù)化，進(jìn)而大大的地提升商品的生產(chǎn)量，并且在加工過(guò)程中對(duì)自然環(huán)境零污染。

(6)因?yàn)樵谡婵毡脴?biāo)準(zhǔn)下制膜，因此薄膜的純凈度高、密實(shí)度性好、表面明亮不用再生產(chǎn)加工，這就促使薄膜的物理性能和有機(jī)化學(xué)性能提升電鍍膜和有機(jī)化學(xué)膜好。