PVD真空鍍膜工藝非常復(fù)雜。由于涂層原理不同，因此分為多種類型。它具有統(tǒng)一的名稱，只是因?yàn)樗枰芨叩恼婵斩取Ｒ虼?，?duì)于不同的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不同。均勻性的概念本身將根據(jù)涂層的大小和膜的組成而具有不同的含義。

膜均勻性的概念：

1.厚度均勻性也可以理解為粗糙度。在光學(xué)膜的尺寸上（即，以1/10波長(zhǎng)為單位，約100A），真空涂層的均勻性非常好，并且可以容易地降低粗糙度。控制程度在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，這意味著對(duì)于薄膜的光學(xué)特性，真空鍍膜沒有障礙。

但是，如果涉及原子層尺度的均勻性，即達(dá)到10A甚至1A的表面流平性，則是真空鍍膜的主要技術(shù)內(nèi)容和技術(shù)瓶頸。具體的控制因素將根據(jù)不同的涂層進(jìn)行詳細(xì)說明。 。

2.化學(xué)成分均勻：

也就是說，在薄膜中，由于尺寸太小，化合物的原子組成將容易產(chǎn)生不均勻的特性。對(duì)于SiTiO3薄膜，如果涂覆工藝不科學(xué)，則實(shí)際表面組成不是SiTiO3，而可以是其他比例。涂覆的膜不是所需膜的化學(xué)組成，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量。

3.格序度均勻度：

這確定薄膜是單晶，多晶和無定形的。這是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題。有關(guān)詳情，請(qǐng)參見下文。

分類主要分為兩類：

蒸發(fā)沉積和濺射沉積涂層，包括許多類型，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠-凝膠法等。

1.對(duì)于蒸發(fā)涂層：

通常，將靶加熱，以使表面成分以原子團(tuán)或離子的形式蒸發(fā)，并沉積在基板的表面上，并通過成膜工藝形成薄膜（分散的點(diǎn)島結(jié)構(gòu)-迷路的）。結(jié)構(gòu)層生長(zhǎng)）。

厚度均勻度主要取決于：

1.基材與靶材之間的晶格匹配度

2.基板表面溫度

3.蒸發(fā)功率，速率

4.真空度

5.涂布時(shí)間和厚度。

組件均勻度：

蒸發(fā)涂層的組成均勻性不容易得到保證。具體的可控因素與上述相同。然而，由于原理的限制，對(duì)于非單組分涂層，蒸發(fā)涂層的組成均勻性不好。

對(duì)于濺射涂層，可以簡(jiǎn)單地理解為使用電子或高能激光轟擊靶材并導(dǎo)致表面組分以原子團(tuán)或離子的形式濺射出來，后沉積在金屬表面上。在基材上進(jìn)行成膜過程。后，形成薄膜。

濺射涂層分為許多類型。一般而言，與蒸發(fā)涂層的區(qū)別在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

這些參數(shù)需要通過實(shí)驗(yàn)確定，并且都不同。鍍膜設(shè)備的質(zhì)量主要取決于是否可以精確控制溫度，是否可以確保良好的真空度以及是否可以確保良好的真空腔室清潔度。 MBE分子束涂層技術(shù)已經(jīng)解決了上述問題，但基本上已用于實(shí)驗(yàn)研究。工業(yè)生產(chǎn)中常用的集成鍍膜機(jī)主要是離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。