PVD真空鍍膜就是指在高真空泵的標準下加溫金屬材料或非金屬材質，使其蒸發(fā)并凝固于電鍍錫（金屬材料、半導體材料或導體和絕緣體）表面而產生 塑料薄膜的一種方式。比如，真空泵鍍鋁膜、真空泵不銹鋼等。 真空泵鍍膜是真空泵主要用途的一個關鍵層面，它是以真空設備為基本，運用物理學或有機化學方式，并消化吸收離子束、分子結構束、離 子束、等電子束、頻射和磁控等一系列新技術應用，為研究和具體生產制造給予塑料薄膜制取的一種新技術新工藝。簡易地說，在真空泵 中把金屬材料、鋁合金或化學物質開展蒸發(fā)或磁控濺射，使其在被涂敷的物件（稱基鋼板、硅片或基材）上凝結并沉積的方式，稱之為真 空鍍膜。 PVD鍍膜與傳統(tǒng)的的有機化學電鍍工藝的相同之處是，兩者都歸屬于表面解決的范圍，全是根據一定的方法使一種原材料遮蓋在另一種原材料 的表面。 二者的不同之處是：PVD鍍膜膜層與產品工件表面的結合性更高，膜層的強度高些，耐磨性能和耐蝕性更強，膜層的特性也更加穩(wěn)定 定；PVD鍍膜能夠鍍的膜層的類型更加普遍，能夠鍍出的各類膜層的色調也大量更好看；PVD鍍膜不容易發(fā)生有害或有環(huán)境污染 的化學物質。 

大家都知道，在一些原料的表面上，只需鑲上一層塑料薄膜，就能使材質有著很多新的、優(yōu)良的物理學和化工特性。二十世紀70年 代，在物件表面上鍍膜的辦法具體有電鍍原理和化學鍍鎳法。前面一種是利用插電，使鋰電池電解液電解法，被電解法的等離子噴涂到做為另一 個電級的基材表面上，因而這類鍍膜的標準，基材務必是電的抗磁質，并且塑料薄膜薄厚也無法操縱。后面一種是運用有機化學復原 法，務必把膜材配置成水溶液，并能快速參與氧化反應，這類鍍膜方式不但塑料薄膜的融合抗壓強度差，并且鍍膜既不均衡也不容易 操縱，與此同時還會繼續(xù)造成很多的廢水，導致明顯的環(huán)境污染。因而，這二種被我們稱作濕試鍍膜法的鍍膜加工工藝得到了大的限制。----超硬面熱噴涂